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Chapter032 光刻机:至极变态的条件

  送走李强,布一楠开始查看最近的各项工程进度。

   水厂建好后,就要开始修建超纯水系统来观测超新星爆炸,将确实的证据摆在人类面前。

   之前布一楠思考很久,还是决定要修建这个,因为这系统还有另外一个作用就是为未来研究中微子核裂变,是研究能源矩阵的基础研究。

   翻看资料,反渗透膜的技术已经被基地中一名材料学专家转化为了工业技术,可实现量产了。

   就是仪器设备这块还需要在打磨一下。

   布一楠看了设计图之后又将这份设计做了些许修改和调整。

   现在国家可真的没有太多钱了,自己的任何一项研究都需要海量资金。

   虽然邓玉峰从来没说,不过她又不是傻的。

   外附机械骨骼这件事就能看出来,国家在努力挣钱呢。

   要不要再丢出一点东西,换钱?

   悬浮车?

   虚拟游戏?

   磁悬浮技术拿出来了,估计产能够呛。

   虚拟游戏需要脑机技术,超级芯片制造出来之后才能实现。

   这麻爪了。

   布一楠暗嘲自己就不是个能发大财的人,手里一堆王炸居然找不出一个能挣钱的东西。

   算了,还是让别人操心去吧。

   她只管把技术拿出来就行。

   还是先搞完自己的芯片大业吧,这玩意一出,无人能敌。

   之前说完了龟腚……硅锭到硅片的过程。

   接下来就是将硅片光刻制成晶圆,这里就是整个芯片制造的另一个难点。

   光刻就需要光刻机。

   之前提到(第十章)EUV极紫光源的存在。

   根据瑞利定理,要制造纳米级芯片,光刻的光波就要更短更小。

   EUV是人类现阶段能实现的最短光13.5纳米。

   这个光是利用40千瓦激光驱动深紫外线光(DUV)发出的193纳米光打击液态金属锡来实现。

   为了得到波长更短,强度足够的光,需用光脉冲击打液态金属锡(20微米,从高空掉落的运动体)高频重复五万次每秒。

   利用金属吸收反射的原理将光波变得更短,但是这种光的波长是短了,强度又不够,怎么办?

   那就打击2次!

   动次打次,动次打次~

   光有了,就相当雕刻于有了刀。

   光刻机还需要反射镜。

   (反射镜原理不用讲吧,八年级物理,不会的都是九漏鱼~自己自首去)

   这种反射镜只反射13.5纳米的光,镜子直径30cm,镜面要求非常平整。

   平整到什么变态程度呢?

   如果把这面镜子放大到地球那么大,这上面只允长一根头发那么大的误差,大约0.05纳米左右的凸起厚度。

   (像我这种天生头发丝细的人的头发大约就是50微米(1微米=1000纳米),我有个朋友她一根头发顶我五根。(?ε?`)……羡慕死了……)

   这样的反射镜每个镜子有40层这种镜面!一台光刻机上有这样的镜子最少20个!!

   ┴┴︵╰(‵□′)╯︵┴┴、

   看到这里,有没有被逼疯?

   这是目前宇宙中最光滑的人造结构了。

   EUV的光通过反射、拐弯、过滤杂光,调整形状之后,每次又都会损伤30%的光强,最后到达硅片上的就只剩下2%。

   所以得出结论,造光刻机好难。

   芯片制造的模板叫做光掩模,这个就是遮光膜和高纯度石英玻璃基板合成光掩模底板,然后再经过绘图显影、蚀刻、去除光致抗蚀剂清洗后制造而成的。

   (手搓芯这下可算会了,这不就是用光刻机通过光掩模在硅片上划拉两下的事吗?有手就行!当初看过一本小说中,主人公熬夜一个月愣是把0.2纳米光刻机给造出来了!我只想说:我的天哪!=????=????(●???● |||))

   整个光刻机光刻时候有些像我们玩的光线游戏,通过调整镜子角度反射光线达到自己的目的。

   芯片就是通过光刻机一次次调整镜子将光传送到指定区域进行光刻。

   整个光刻机和硅片的前生后世都已经差不多说完,这里面其实单拿出来看好像也不难。

   但你会发现所有的这些都有一个精准度,纯度。

   所有材料要求高纯度,不管是气体液体全部都需要达到最大的那只阈值。

   而这个纯度恰好就是摆在所有人面前的难关。

   布一楠把所有工艺写了出来,难点标注。

   可即便这样她还是不放心。

   外面出来敲门声,听到动静布一楠应了一声后凌澈又推着小餐车走了进来。

   “指挥官,吃饭了。”

   “……不想吃……”

   布一楠看到餐车上的一份糊糊就没了胃口。

   凌澈轻声道:“这两天您只能吃流食,过两天就好了,起码让肚子里伤口长好啊!之前胃穿孔……亏你能忍住疼啊……”

   “……凌哥的口气就像在哄孩子!”

   布一楠笑了起来,她的副官可从来没有哄过她。

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